采用全新芯片制作材料——碳纳米晶体。与硅纳米晶体样，都能自行生，密度和体积却比硅晶体小得多，能使我们无限度地保持尔定律。

“更为重要是，在碳纳米晶体生过程，我会调化学药剂，对些生错误晶体行侵蚀和销毁，并促其他晶体地正确生，并最终在试里得到张完整芯片。这个过程叫做‘建设性破坏’，工作效率远远超过目前最尖端光刻机。”

宣冥和顾少听得脸懵。

懂行技术人员却都骇然变。

讲到这里就不得不提提光刻机运行机制。相当于台单反照相机，能把复杂至极芯片设计图复刻在小而薄硅芯片上。张硅芯片往往会存在百亿条纳米晶体电路，而这么多晶体正确蚀刻都有赖于光刻机精确计算。

工作难度到底有多大？

打个比方，两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并，其架飞机伸把刀，在另架飞机米粒上刻字。这些字有多少？不是个两个，而是几十亿、上百亿，个笔画都不能刻错，要不然就得从头来过！

所以HL人才说，哪怕把光刻机设计图白送给华国人，华国人都造不来。

是，庄理提这“建设性破坏”概念，利用却不是物理蚀刻技术，而是化学侵蚀技术。

有腐蚀性化学液体分能代替光源能量，行精密地作。也不需要把几十亿上百亿纳米晶体全部对接正确，只需把自我生错误晶体毁掉就可以。

这个工作难度又是多大呢？

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