这次任务摊在他们身上的应不算重。

重的应该是那些十年如一日都在攻克光学镜片的科研小组，他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。

但是从来没有像这次一样急迫，因为美国和岛国等国家的压迫, 现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。

这年来国内也有一定的科研成果。

2017年smee就验收了90nm光刻机，马上就具备了成本优势和企业规模, 占据了全国60%的市场，全球40%的市场。

外国怎么能不害怕。

目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室, 28nm制程, 最高可制造22nm, 但那是从国外买的, 而且也经过了多方的手续。

221计划的最终目的是突破14nm的光刻机, 并且建设上下游相应的工艺研发生产线，这才是华夏老大难的问题。

而不是有没有这个技术的问题。

宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机，进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。

其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破，并且低调封装。

28nm的光刻机在悄悄研发，目前已经在国家验收当中。

宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改性，做到了193纳米浸润光刻，这个193和晶圆的大小几nm的不一样，193nm说的是光源的波长，除了193之外还有一种248nm的光线。

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